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CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处（见上图），但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单，而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上，被称作终点检测，通常有电机电流终点检测、光学终点检测。
在抛光工艺过程中，磨料和被抛光对象都会造成硅片的沾污，清洗的主要目的就是为了清除这些沾污物质，使硅片的质量不致受到影响。所采用到的清洗设备有毛刷洗擦设备、酸性喷淋清洗设备、超声波清洗设备、旋转清洗干燥设备等。清洗步骤主要有氧化硅清洗、浅沟槽隔离清洗、多晶硅清洗、钨清洗、铜清洗等。
* 生产中间步骤中氧化层和金属间电介层的平面化
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温哥华市政府于1920年代委托顾问公司为市内规划进行研究。研究报告倡议市府在福溪的西端兴建一条行车大桥连接市中心和基斯兰奴，而工程师约翰·格兰特亦于1927年完成大桥的初步设计。市政府于1929年5月15日就大桥的集资事务举行公投；过半数选民支持市府的300万元集资方案，但方案却未达致60%门槛而被否决。格兰特其后更改大桥的设计，在行车线的下方预留空间待日后兴建铁路通道层。新方案在同年12月11日举行的第二次公投中获超过60%选民支持而被通过。
大桥工程于1930年12月8日展开，而大桥的上层行车线则于1932年7月1日通车。市府本来打算利用联邦政府提供的拨款兴建下层铁路通道，但联邦政府一直没有提供该项拨款，此计划因而告吹。大桥贯通了福溪北岸的布勒街和南岸的暑打街（Cedar Street），而市府亦于1938年将暑打街更名为布勒街。
市府从1996年3月26日起试行将大桥其中一条行车线改为单车线。试行计划原定为期六个月，但因市内驾驶人士大力反对而于一星期后结束。
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