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纯的碳化硅是无色的,工业用碳化硅由于含有铁等杂质而呈现棕色至黑色。晶体上彩虹般的光泽则是因为其表面产生的二氧化硅钝化层所致。
碳化硅高达2700°C的升华温度使得它适合作为制造轴承和高温熔炉的部件。它本身也具有较高的化学惰性。由于其相较于晶体硅具有更高的热电导率、电场击穿强度和最大电流密度,所以在高功率的半导体材料方面具有更好的应用前景。此外碳化硅的热膨胀系数也非常低(4.0×10-6/K)同时也不会发生可能引起的不连续性热膨胀的相变。
在碳化硅中掺杂氮或磷可以形成n型半导体而掺杂铝、硼、镓或铍形成p型半导体。在碳化硅中大量掺杂硼、铝或氮可以使掺杂后的碳化硅具备数量级可与金属比拟的导电率。掺杂Al的3C-SiC、掺杂B的3C-SiC和6H-SiC的碳化硅都能在1.5K的温度下拥有超导性,但掺杂Al和B的碳化硅两者的磁场行为有明显区别。掺杂铝的碳化硅和掺杂B的晶体硅一样都是第二类超导体,但掺杂硼的碳化硅则是第一类超导体。
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穆丹(1773年),字史云,号荔帷,别号晚拙居士,乌雅氏,满洲正黄旗人。乾隆丁卯举人,辛未进士。
杨钟羲《雪桥诗话》卷六记载:“乌雅穆丹...以辛未庶常改主事,由工部郎中出守嘉定。金川用兵,常总西藏松冈粮运。有《西南于役草》。”
* 胞弟穆和蔺,乾隆丁卯同榜举人,安徽巡抚;
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