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对于0 16cm-3左右，先镀Ti接触硅再镀上Ag形成欧姆接触。连同使用其它的反应金属，铝接触通过消耗天然氧化物中的氧来形成。硅化物很大程度上取代了铝（Al）部分因为高折射材料不太倾向于扩散到不希望的地带，特别是在随后的高温处理过程中。
复合半导体接触的形成可以理解比硅接触更为复杂。比如说，砷化镓（GaAs）表面倾向于丢失砷而且这种砷丢失的趋势可以通过沉积金属而被可观的放大。另外，砷的易挥发性限制了沉积后退火时砷化镓器件的承受度。砷化镓及其他复合半导体的一种解决办法是沉积低禁带合金接触层与高掺杂层相对。例如，砷化镓自己比砷化铝镓（AlGaAs）有更小的禁带带宽 所以一层靠近它表面的砷化镓层能促进欧姆行为。总之相比之下，III-V和II-VI半导体欧姆接触技术比硅欧姆接触技术发展较缓。
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* 第5卷 在埃及之事务：克里奥米尼斯之死；在希腊之事务：菲利普以及希腊人
* 第6卷（已残） 来自序文；论国家之型态；论成熟的罗马宪政；罗马的军事系统；罗马共和与其它共和的比较；结论
* 第7卷（已残） 在西西里之事务；在希腊之事务：汉尼拔与马其顿菲利普之间的条约；菲利普的个性
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公方是前近代日本的一个称呼，即「公」的意思，指的是统治者，体现其对国家的统治权。其起源有多种说法，一说是古代天皇及其朝廷，一说是镰仓时代或室町时代对幕府将军的称呼。特别地，在室町时代的后半叶，公方这一称号成为实际执掌日本政权的足利将军家一族地方势力的一个称号。足利氏在日本各地有若干个公方，如镰仓公方、越中公方等。公方的称号被称为公方号。江户时代以后，则成为了幕府将军的称号。
在中国，「公」是与「私」相对的一个概念，而在日本，公包含了民众与国家综合的意义。日本有「五公五民」、「公私混同」的观念。在这种观念的影响下，天皇及其朝廷被称作公家，亦称公方。
在平安时代后期，日本私有的庄园大量出现后，国家统治者为强调自己的统治权，公方一词被大量使用。然而在朝廷权力被严重削弱的镰仓时代之后，由于庄园、公领一圆支配的实现，拥有土地统治权的本所（寺社、公家）与武家等也以公方的名义自居。
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