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三氟化氮（NF3）是卤化氮中最稳定的无机化合物，可在铜的催化下由氨气与氟气制成。 它可以用作氟化氢激光器的氧化剂，半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。 但由于三氟化氮属于温室气体，能加剧温室效应，因此有人认为应该限制这种化合物的使用。
三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。
在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。
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朱元璋灭方国珍之战，吴元年（元惠宗至正二十七年，1367年）八月至十二月，吴王朱元璋消灭浙东方国珍的作战。
朱元璋于吴元年四月对方国珍发起攻击，以朱亮祖为主帅，率领数万马军、步军、水军，从杭州府（今浙江杭州）攻打温州府（今浙江温州）。朱亮祖南下在九月，攻克关岭山寨（今浙江新昌东南）、天台（今浙江天台），东进攻下克台州（治今浙江临海），台州守将方国瑛逃亡黄岩（今浙江黄岩），朱亮祖抵达黄岩城，守将哈尔鲁献城归降，方国瑛逃到海上。朱亮祖回军攻下仙居（今浙江仙居）。十月，朱亮祖率军南下，攻打温州，方明善败逃，朱亮祖占领温州。
朱元璋派汤和率军从绍兴府东进，会同朱亮祖一起进攻方国珍。十一月，汤和渡过黄娥江攻下上虞（今浙江上虞）、余姚（今浙江余姚），抵达庆元路（治今浙江宁波），攻庆元西门。方国珍率军迎战，被汤和击败，属下将领方惟益等人被俘。方国珍率残余部队逃到海上。汤和攻下定海（今浙江宁波东北的镇海）、慈溪（今宁波西北）等县。朱元璋派廖永忠率水军，从海上配合汤和会战方国珍。十二月，方国珍投降。
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串级反应（cascade reaction）又称级联反应、串联反应（tandem reaction）、多米诺反应（domino reaction），通常是一系列连续的分子内有机反应，有机反应是借由高活性的中间体进行的。它使单一无环的前驱体进行有机合成为一多核分子的复合体。定义为从前提分子内去区分多组反应的反应类型。在有机合成中的串级反应的主要优点是，其反应通常是快速的，由于其分子内的性质，显示了高原子经济性，也不涉及后处理的许多中间体的隔离，并增加了反应的复杂性，使步骤有很高的效率。另外，在串级反应中，可以识别一个起始点，中继部分和终止部分。
串级反应的例子有很多（例如羟醛-季先科反应）和聚烯烃多环异构化反应。尤其是在炔化学中的例子更多。
其他的炔偶联反应则是基于共同的特性来分，像是依化合物的合成类型来进行分类，例如螺模式级联。
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