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会昌六年（846年），李渼被他父亲唐宣宗封为雍王，其后史书中没有记载他的情况。大中六年（852年），李渼死后，追封靖怀太子。

新旧唐书皆云，唐宣宗有十一子，但记为十二人。除李渼外，其余诸子皆有排行。有认，李渼即唐宪宗孙、唐宣宗侄子、宣宗二兄澧王李恽的长子东阳郡王李汉，唐宣宗登基后为了宣称自己是正统，指三兄穆宗篡李恽之位而自己又从穆宗系夺回正统，故如此抬举李恽的儿子。

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一些CVD技术被广泛地使用及在文献中被提起。这些技术有不同的起始化学反应机制（如活化机制）及不同的制程条件。

* 常压化学气相沉积（Atmospheric Pressure CVD，APCVD）：在常压环境下的CVD制程。

* 低压化学气相沉积（Low-pressure CVD，LPCVD）：在低压环境下的CVD制程。降低压力可以减少不必要的气相反应，以增加晶圆上薄膜的一致性。大部份现今的CVD制程都是使用LPCVD或UHVCVD。

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