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药物治疗的选择应基于个体症状的严重程度、肝酶和抗体水平的定量升高、肝活检的结果以及药物治疗副作用的耐受能力。

一般来说，肝酶和抗体水平正常的无症状患者以及肝活检未显示炎症的患者不需要治疗，因为这些患者疾病进展的风险较低。对于有症状且肝活检显示界面性肝炎和坏死证据的个体，建议提供治疗，如果患者年轻且可以耐受药物治疗的副作用。

治疗的主要方法是在急性发作期间使用免疫抑制性糖皮质激素，如泼尼松，在高达60-80%的病例中可以实现症状消退，但许多病例最终会复发。对于不能耐受糖皮质激素的中重度疾病患者，低剂量泼尼松单药治疗或与硫唑嘌呤联合治疗是合理的替代方案。布地奈德已被证明在诱导缓解方面比泼尼松更有效，但证据不足，需要更多数据才能例行推荐。对糖皮质激素和硫唑嘌呤无反应的自身免疫性肝炎患者可给予其他免疫抑制剂，如霉酚酸酯、环孢素、他克莫司或甲氨蝶呤。

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* 微波等离子体辅助化学气相沉积（Microwave plasma-assisted CVD，MPCVD）

* 等离子体增强化学气相沉积法（Plasma-Enhanced CVD，PECVD）：利用等离子体增加前驱物的反应速率。PECVD技术允许在低温的环境下成长，这是半导体制造中广泛使用PECVD的最重要原因。

* 远距电浆增强化学气相沉积（Remote plasma-enhanced CVD，RPECVD）：和PECVD技术很相近的技术。但晶圆不直接放在电浆放电的区域，反而放在距离电浆远一点的地方。晶圆远离电浆区域可以让制程温度降到室温。

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