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爱尔兰高等法院（An Ard-Chúirt）根据《爱尔兰宪法》第34条设立，为爱尔兰共和国的高等法院，主要负责审讯重大民事、刑事案件，审讯刑事罪件时称中央刑事法庭（Central Criminal Court ），审判由法官及陪审团陪同。

和Supreme Court of Ireland不同的是，爱尔兰高等法院既是初审法院又是上诉法院。对巡回法院或地区法院判决不服者，可向高等法院提出上诉；而极严重罪案（如叛国罪同贪污罪）将直接在高等法院提起公诉。对高等法院判决不服者，则上诉至最高法院。

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神龙元年（705年）正月，张柬之与崔玄𬀩、桓彦范、袁恕己、敬晖等人，乘武则天病重，发动神龙革命，兵变初始，张柬之等率羽林兵五百余人，迎太子李显由玄武门入宫，复辟唐朝，是为唐中宗。因功擢天官尚书，封汉阳郡公。

后五大臣均升郡王，张柬之封为汉阳郡王；崔玄𬀩博陵郡王；敬晖平阳郡王；桓彦范扶阳郡王；袁恕己南阳郡王。

不久，张遭武则天的姪子武三思排挤，武三思以张等五大臣诬陷韦后为由，向唐中宗中伤他们，皇帝于是下诏，将五大臣流放边疆。张柬之被流放襄州（今湖北襄阳），气愤而死。

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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。

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