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西元934年6、7月期间,艾塞斯坦联合威尔士诸侯攻击苏格兰,关于英格兰此次侵略的原因尚未有统一定论,盎格鲁-撒克逊编年史也仅是极简要的记载了这次行动,并没有记录任何战役。然而当年9月,康斯坦丁二世在英格兰南部的白金汉郡公证了一份土地证书,在证书中自称为subregulus(副王,被附庸领主的自称),侧面反映艾塞斯坦在他之上的统治地位。
937年,康斯坦丁联合女婿都柏林国王Olaf Guthfrithson、斯特拉斯克莱德人攻打艾塞斯坦,在布鲁南博尔之战失利。943年,65岁以上的康斯坦丁退位并隐退至Culdees(Céli Dé)的Church of St Mary on the Rock,最终于952年在当地过世。他的继任者是先王多姆纳尔之子马尔科姆一世。
康斯坦丁二世在位长达四十三年,任期超过他的苏格兰国王仅有威廉一世与詹姆斯六世。在他统治期间,“苏格兰人”和“苏格兰”(Scottas, Scotland)两词首次用来指现代苏格兰的一部分。证据显示,直到十二世纪中期的Davidian Revolution时期,康斯坦丁创立的的教会和行政机构仍在运行。
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CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处(见上图),但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单,而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上,被称作终点检测,通常有电机电流终点检测、光学终点检测。
在抛光工艺过程中,磨料和被抛光对象都会造成硅片的沾污,清洗的主要目的就是为了清除这些沾污物质,使硅片的质量不致受到影响。所采用到的清洗设备有毛刷洗擦设备、酸性喷淋清洗设备、超声波清洗设备、旋转清洗干燥设备等。清洗步骤主要有氧化硅清洗、浅沟槽隔离清洗、多晶硅清洗、钨清洗、铜清洗等。
* 生产中间步骤中氧化层和金属间电介层的平面化
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NHK大厅最早设于NHK东京放送会馆旁,于1955年完工,过往NHK许多的现场直播节目如《立体音乐堂》等都是从这里播出,日后才随著NHK放送中心的启用迁移至涩谷现址。
2021年3月至2022年6月,为进行耐震工程施工,NHK大厅将进行长期关闭。工程已在2022年6月竣工。
* NHK红白歌合战(自1973年/第24回开始,每年12月31日)
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