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氧化硅抛光主要被应用于平坦化金属层间淀积的层间介质（ILD），其基本机理是Cook理论。磨料中的水和氧化硅发生表面水合作用，从而使氧化硅的硬度、机械强度等有效降低，在机械力的作用下将氧化硅去除。氧化硅的去除速率主要由Preston方程表达。
金属抛光与氧化硅抛光机理有一定的区别，采用氧化的方法使金属氧化物在机械研磨中被去除。
磨料是平坦化工艺中研磨材料和化学添加剂的混合物，研磨材料主要是石英，二氧化铝和氧化铈，其中的化学添加剂则要根据实际情况加以选择，这些化学添加剂和要被除去的材料进行反应，弱化其和硅分子联结，这样使得机械抛光更加容易。在应用中的通常有氧化物磨料、金属钨磨料、金属铜磨料以及一些特殊应用磨料。台湾主要的厂商有长兴科技公司。
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祖籍北庭（今新疆吉木萨尔北）。梁王阿鲁温之子，祖乃蛮台，曾祖阔阔台随蒙古帝国大军进入中国，后世代定居于颖州沈丘（今安徽临泉县）。
元惠宗至正十二年（1352年），察罕帖木儿起兵对抗刘福通所领导的红巾军，并和李思齐一起攻破农民起义军占领的罗山，从此受到元政府的重视。随著察罕帖木儿不断挫败红巾军，其官职和地位逐渐上升，由汝宁府达鲁花赤升至兵部尚书，后历任陕西行省平章政事、河南行省平章政事兼河南行枢密院事，中书省平章政事、知河南山东行枢密院事。
1356年至1357年察罕帖木儿领兵在河南、山西和陕西击败李武、崔德；1358年击败毛贵率领的红巾军北伐军于山西；
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* 卢克·杨格（Luke Young）：英格兰足球运动员，担任右后卫。
* 拉蒙特·扬（La Monte Young）：美国作曲家。
* 汤玛士·杨格（Thomas Young）：英国科学家、医生。
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